慕德微纳与微芸科技战略签约|共推AR核心刻蚀设备量产，首台样机已稳定运行！

2025年12月30日下午，慕德微纳与微芸科技举行战略合作签约仪式，双方将携手深耕倾斜光栅刻蚀领域，联合开发高性能反应离子束刻蚀设备，推动 AR 刻蚀光波导技术产业化升级。

签约前，双方合作研发的第一台样机已在慕德微纳产线实现稳定运行，其8寸刻蚀均匀性指标达到2%的行业先进水平，为后续量产推广奠定了坚实基础。随着AR产品的加速渗透，刻蚀光波导作为AR设备的核心光学组件，其技术成熟度与量产能力直接决定行业发展进程；倾斜光栅刻蚀作为AR衍射光波导制造的关键结构，具备高光效及低漏光的光学效果优势，但长期面临刻蚀精度、量产能力及成本等瓶颈，高性能设备研发成制约 AR 产业突破的关键因素。此次双方达成战略合作，正是瞄准这一行业痛点展开精准攻关。依托优势互补—— 慕德微纳深耕微纳光学器件领域，拥有成熟产业化经验；微芸科技专注半导体设备研发制造，具备关键技术突破能力 —— 联合开发的反应离子束刻蚀设备专为倾斜光栅刻蚀场景定制，兼具高精度、高稳定性及大规模量产优势，未来在TiO2及SiC倾斜光栅刻蚀量产方面降本潜力巨大。目前落地的首台样机经过多轮测试验证，不仅实现了24小时连续稳定运行，更在核心性能指标上取得突破——8寸刻蚀均匀性达到2%以内。这一数据远超工业级刻蚀设备≤3%的常规要求，意味着设备能够精准控制大面积晶圆的刻蚀一致性，为AR刻蚀光波导的高质量量产提供了核心装备支撑。在8寸设备的基础上，双方将在2026年推出更具量产优势的12寸反应离子束刻蚀（RIBE）设备。未来，双方将进一步打通关键技术链路，加速设备量产落地，推动相关领域国产化替代，降低制造成本，加速AI+AR时代的到来！